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1、
Three pole reaction sputtering has the properties of simple equipment, easy process and fined film.
三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。
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2、
本设备由以下系统组成：注入系统，有溅射离子源及不对称三电极加速管，能量50keV，流强4mA（N~+）；
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3、
磁控反应溅射镀膜设备充气系统设计的几个问题
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